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Epson apresenta coleções com impressão digital na Semana de Moda de Nova Iorque
A Epson promoveu o evento de moda que antecede a temporada de inverno do New York Fashion Week (NYFW), encontro de maior prestigio da moda mundial.
A empresa desenvolveu uma proposta inovadora, selecionando 11 estilistas das Américas dispostos a incorporar uma revolução tecnológica nas suas coleções, mediante o uso da tecnologia de sublimação digital para criar novos estilos na moda.
Intitulado Digital Couture Project – Epson NYFW 2015, o evento foi realizado na “Industria Superstudios”, o mítico estúdio de Nova Iorque, referência de criatividade, moda e tendências. Entre os 200 participantes, estavam membros destacados da imprensa internacional, a elite do mundo da moda, além de celebridades e membros da sociedade nova iorquina.
Os presentes curtiram uma noite deslumbrante com modelos que vestiram as coleções dos estilistas e foram testemunhas de peças arrojadas, que se impõem como tendências que marcarão a moda durante o ano de 2015.
“A moda é construída sobre tendências, e a tecnologia há muitos anos é uma tendência em si mesma. Os estilistas que participaram deste ambicioso projeto mostraram que com a tecnologia de sublimação, a versatilidade no desenho e a qualidade das cores e detalhes nas roupas estão no nível de Alta Costura” comentou Agustín Chacón, Vice Presidente de Vendas e Operações da Subsidiaria Latinoamericana da Epson.
Brasil
A representante do Brasil foi Mariana Morrell, aluna da graduação em Design de Moda do Istituto Europeo di Design – IED São Paulo. Ela foi selecionada após um concurso realizado exclusivamente entre os alunos da instituição.
Mariana Morrell explica que “a coleção ‘Swag & Cozy’ foi criada a partir do tema "o futuro da moda", que acredito que esteja em algum lugar entre a identidade das pessoas e as cidades em que vivemos.
A coleção traz o conceito de vestimentas multifuncionais e é inspirada na cultura hip-hop; são roupas desenvolvidas para serem confortáveis e de manuseio simples. A brincadeira acontece nas peças, que desmontam e assumem outras funções – jaquetas viram mochilas, calças se tornam moletons; entre outras possibilidades. Já as estampas surgiram de múltiplas fotos sobrepostas, com imagens de cidades como São Paulo e Nova Iorque, que retratam o lado urbano da coleção.”
Além de Mariana Morrell, apresentaram coleções os estilistas Pilar Briceño (Colômbia), Dual (Costa Rica), Ay Not Dead (Argentina), Moah Saldaña (Peru), Marco Antonio Farías (Chile), María Elisa Guillén (Equador), Pineda Covalin (México), Leonor Silva, representando o Caribe (Venezuela/Miami), Maggie Barry (Costa Oeste dos Estados Unidos Costa) e ESOSA (Costa Leste dos Estados Unidos). Todas as coleções foram inspiradas no futuro da moda e na sublimação digital, e foram elaboradas com as impressoras para sublimação SureColor Série F da Epson, que também foram exibidas durante o evento.
“A proposta da Epson tinha como objetivo mostrar que a sinergia entre moda e tecnologia abre as portas tanto a empreendedores quanto a estilistas já estabelecidos para uma nova oportunidade criativa, funcional, e de alta qualidade. O sucesso deste projeto mostra que este objetivo foi alcançado”, disse Paulo Ferraz, presidente da Epson do Brasil.
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